退火爐是在半導(dǎo)體器件制造中使用的一種工藝，其包括加熱多個半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是針對不同的效果而設(shè)計的?？梢约訜峋约せ顡诫s劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或?qū)⒈∧まD(zhuǎn)換成晶片襯底界面，使致密沉積的薄膜，改變生長的薄膜的狀態(tài)，修復(fù)注入的損傷，移動摻雜劑或?qū)诫s劑從一個薄膜轉(zhuǎn)移到另一個薄膜或從薄膜進入晶圓襯底。

退火爐（退火窯）配備煤氣發(fā)生爐要根據(jù)退火窯的大小，窯爐面積，容量多方考慮，選擇適當(dāng)?shù)拿簹獍l(fā)生爐。一般鑄造用退火爐溫度大都是750℃加熱溫度，但也有其他鑄造件因材質(zhì)問題需要較高溫度的，有些合金鑄件退火溫度達1000℃還高，所以退火窯所選用煤氣發(fā)生爐大小也要考慮退火金屬屬性。目前有以高檔耐火保溫棉和硅酸鋁板等材料制作的退火爐窯，其保溫性好，爐體吸收熱量少，相對耐火磚建造的退火爐耗能低。配備煤氣發(fā)生爐時，退火爐窯的建造材質(zhì)已經(jīng)退火爐結(jié)構(gòu)，余熱利用的效能都是考慮因素，具體情況要區(qū)別對待。

均勻化退火以減少工件化學(xué)成分和組織的不均勻程度為主要目的，將其加熱到高溫并長時間保溫，然后緩慢冷卻的退火，均勻化退火一般用于合金鋼鑄件，通常在1050～1250℃長時間保溫，使碳化物充分固溶。保溫時間與鋼中的溶質(zhì)元素偏析程度、擴散溫度及工件尺寸的有關(guān)。

退火爐可以集成到其他爐子處理步驟中，例如氧化，或者可以自己處理。退火爐是由專門為加熱半導(dǎo)體晶片而設(shè)計的設(shè)備完成的。退火爐是節(jié)能型周期式作業(yè)爐，超節(jié)能結(jié)構(gòu)，采用纖維結(jié)構(gòu)，節(jié)電60%。