球化退火只應用于鋼的一種退火方法。大連半導體生長爐將鋼加熱到稍低于或稍高于Ac1的溫度或者使溫度在A1上下周期變化，然后緩冷下來。大連半導體生長爐目的在于使珠光體內的片狀滲碳體以及先共析滲碳體都變?yōu)榍蛄?，均勻分布于鐵素體基體中這種組織稱為球化珠光體。具有這種組織的中碳鋼和高碳鋼硬度低、被切削性好、冷形變能力大。對工具鋼來說，這種組織是淬火前的原始組織。

工件加熱到高于Ac3或Ac1的溫度，保持適當時間后，較快的冷卻到珠光體轉變溫度區(qū)間的適當溫度并等溫保持，使奧氏體珠光體組織后在空氣中冷卻的退火。大連半導體生長爐等溫退火的奧氏體化溫度一般與完全退火相同，對于合金含量較高的大型鑄鍛件可適當提高加熱溫度。大連半導體生長爐等溫溫度越低，退火后的硬度越高。 等溫退火后的組織與硬度均勻性優(yōu)于完全退火，比較適合于與大型合金鋼鑄件。

該爐是供金屬機件、環(huán)件等在額定的溫度下進行熱處理設備簡介：本爐是由爐體與一個可移動的爐蓋及控制系統(tǒng)組成。爐體外殼采用型鋼及鋼板焊接而成。大連半導體生長爐爐蓋支撐采用型鋼和導軌組合移動式。元件采用北京首鋼產的高電阻合金0Cr25Al5布置在爐側。爐底由于承重采用高鋁磚砌筑，爐子中心采用大圈套小圈做法，里外加熱。大連半導體生長爐爐蓋采用液壓升降，電機控制自動行走。溫控系統(tǒng)采用PID可控硅控制，精度高。

連續(xù)光亮退火爐用途：用于不同規(guī)格銅直管棒、鋼管、鋁管或盤園在控制氣氛下連續(xù)光亮退火特點：工件連續(xù)通過預熱、加熱、保溫、緩冷、冷卻，不受長度限制。大連半導體生長爐傳動采用托輥式同步傳動，變頻調速，平穩(wěn)可靠。大連半導體生長爐通保護氣氛和強力的熱氣氛循環(huán)，溫度均勻，內外表面十分光亮。冷卻區(qū)設計獨特，保證工件均勻冷卻。處理的產品內外表面光亮，產品質量高，生產率高。加熱方式：電加熱或燃氣加熱

退火爐采用金屬熱處理退火工藝，將金屬緩慢加熱到一定溫度，保持足夠時間，然后以適宜速度冷卻。大連半導體生長爐目的是降低硬度，改善切削加工性；消除殘余應力，穩(wěn)定尺寸，減少變形與裂紋傾向；細化晶粒，調整組織，消除組織缺陷。大連半導體生長爐使經過鑄造、鍛軋、焊接或切削加工的材料或工件軟化，改善塑性和韌性，使化學成分均勻化，去除殘余應力，或得到預期的物理性能。鑄件在冷卻過程中，積累了大量的內應力，要通過退火爐來消除內應力。

將工件完全奧氏體化后緩慢冷卻，接近平衡組織的退火。完全退火奧氏體化溫度一般選為Ac3加三十攝氏度到五十攝氏度，對于某些高合金鋼，為使碳化物固溶應適當提高奧氏體化溫度。為了改善低碳鋼的切削性能，可采用九百攝氏度到一百攝氏度的晶粒粗化退火。為了消除亞共析鋼鍛件、鑄件、焊接件的粗大魏氏組織，需將奧氏體化溫度提高到一千一百攝氏度到一千兩百攝氏度，隨后補充進行常規(guī)完全退火。?