例如鈦合金于加熱和冷卻時發(fā)生同素異構(gòu)轉(zhuǎn)變，低溫為α相密排六方結(jié)構(gòu))，高溫為β相體心立方結(jié)構(gòu)，其中間是“α+β”兩相區(qū)，即相變溫度區(qū)間。常州半導體生長爐為了得到接近平衡的室溫穩(wěn)定組織和細化晶粒，也進行重結(jié)晶退火，即緩慢加熱到高于相變溫度區(qū)間不多的溫度，保溫適當時間，使合金轉(zhuǎn)變?yōu)棣孪嗟募毿【Я＃?a href="/tag/%E5%B8%B8%E5%B7%9E" target="_blank">常州半導體生長爐然后緩慢冷卻下來，使β相再轉(zhuǎn)變?yōu)棣料嗷颚?β兩相的細小晶粒。

根據(jù)塑料件品種的不同，調(diào)節(jié)退火溫度。常州半導體生長爐把天然氣模殼焙燒爐中成型脫模后的注塑制品放在有一定溫度的加熱介質(zhì)或有熱空氣循環(huán)的烘箱中，加熱到比產(chǎn)品使用溫度高二十度到三十五度或者比產(chǎn)品的熱變形溫度低25-35度的溫度下，將產(chǎn)品放進去。過高溫度中制品要變形，但不能溫度過低，過低溫度退火，不能達到退火效果。常州半導體生長爐退火的時間長短要視產(chǎn)品的壁厚而定，越厚的壁要退火的時間越長。熱處理時間達到要求后，制件隨介質(zhì)一起緩慢自然降溫至室溫。注意，處理后的制品如果用冷水急劇降溫或直接從熱處理介質(zhì)中取出降溫，制品由于冷卻速度的不同，又會產(chǎn)生新的內(nèi)應力。

箱式退火爐主要用途：主要用鋼制工件的淬火、正火、退火等常規(guī)熱處理之用的專用設備。常州半導體生長爐箱式退火爐特點：電爐裝載量大、生產(chǎn)率高，特別適用于小、中型機件的熱處理加熱用，節(jié)能達30%，爐溫均勻，智能數(shù)顯表PID自動控制爐溫，精密高；電爐裝御料方便，操作條件好；爐門與爐體的密封為自動密封，無需人工密封；常州半導體生長爐電爐設有連鎖保護裝置，可防止因誤操作而發(fā)生的故障及事故。

依據(jù)燃氣與空氣的混合情況，分為三種燃燒方法。常州半導體生長爐長焰燃燒減去燃氣和空氣在燃燒器內(nèi)不混合，噴出后靠擴散作用進行邊混合邊燃燒，火焰長。常州半導體生長爐短焰燃燒減去燃氣在燃燒器內(nèi)與部分空氣一次空氣混合，噴出后燃燒并進一步與二次空氣混合燃燒，火焰較短無焰燃燒－燃氣與空氣在燃燒器內(nèi)或進燃燒器前完全混合，在燃燒器內(nèi)或噴出后燃燒，火焰短而透明，幾乎無火焰。

該爐是供金屬機件、環(huán)件等在額定的溫度下進行熱處理設備簡介：本爐是由爐體與一個可移動的爐蓋及控制系統(tǒng)組成。爐體外殼采用型鋼及鋼板焊接而成。常州半導體生長爐爐蓋支撐采用型鋼和導軌組合移動式。元件采用北京首鋼產(chǎn)的高電阻合金0Cr25Al5布置在爐側(cè)。爐底由于承重采用高鋁磚砌筑，爐子中心采用大圈套小圈做法，里外加熱。常州半導體生長爐爐蓋采用液壓升降，電機控制自動行走。溫控系統(tǒng)采用PID可控硅控制，精度高。

等溫式退火是應用于鋼和某些非鐵合金如鈦合金的一種控制冷卻的退火方法。常州半導體生長爐對鋼來說，是緩慢加熱到 Ac3亞共析鋼或 Ac1共析鋼和過共析鋼以上不多的溫度，保溫一段時間，使鋼奧氏體化，然后迅速移入溫度在A1以下不多的另一爐內(nèi)，等溫保持直到奧氏體全部轉(zhuǎn)變?yōu)槠瑢訝钪楣怏w亞共析鋼還有先共析鐵素體；常州半導體生長爐過共析鋼還有先共析滲碳體為止，最后以任意速度冷卻下來通常是出爐在空氣中冷卻。